미국 인텔사서 22나노미터(nm) 반도체에 적용
인천대학교는 전자공학과 4학년 이승민과 이동훈 군의 논문이 외국 유명 논문집 9월호에 게재됐다고 22일 밝혔다.
이들 학생이 공동으로 집필한 논문 2편은 미국 전자공학회 논문집인 '일렉트로닉 디바이스 레터'지와 영국 전자학계 논문집 '마이크로일렉트로닉스 리라이어빌리티'지에 각각 실렸다.
두 편의 논문은 곧 미국 인텔사에서 22나노미터(nm) 반도체에 적용할 예정이고 첨단 반도체의 일종인 트라이 게이트 CMOS 소자가 장시간 사용될 경우 발생하는 노화현상을 분석, 노화 정도를 줄이는 내용을 주로 담고 있다.
이들의 논문 지도를 맡은 이 대학 박종태 교수는 "교수들의 논문도 미국 전자공학회 논문집에 실리는 경우가 드물다"면서 "학생들의 논문 수준이 매우 높다는 것을 보여주는 것"이라고 말했다.
저작권자 © 인천in 무단전재 및 재배포 금지
